半导体工艺和硅片衬底流程简介
上传人:侯宇 上传时间: 2011-10-31 浏览次数: 279 |
讲解大纲
1.半导体工艺介绍(氧化,扩散,蒸发,溅射,光刻,腐蚀,注入,CVD)
2.硅片衬底的设计和必要性
3.硅片电路和功能的简介
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1.半导体工艺介绍(氧化,扩散,蒸发,溅射,光刻,腐蚀,注入,CVD)
2.硅片衬底的设计和必要性
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